Поступающим
Студентам
Сотрудникам
Университет
Университет
ЛЭТИ сегодня
Университет сегодня
Миссия, гимн
Этический кодекс
Федеральные проекты
ЛЭТИ в рейтингах
Фирменный стиль
Руководство
Ректор
Ректорат
Ученый совет
Наблюдательный совет
Структура
История и награды
История
Награды
Почетные звания и знаки
Выдающиеся выпускники
Музей
Кампус
Университетский городок
Карта
Общежития
Нормативные документы
Внутренние распоряжения к опубликованию
Документы к публикации от МОН
Закупки
Поступающим
Студентам
Сотрудникам
Образование
Образование
Образовательная деятельность
Образовательные программы
Управление образовательной политики
Аспирантура и докторантура
Конкурсы ППС
Наука
Наука
Научная деятельность
Административная структура
Центр трансфера технологий
Центр Молодежного предпринимательства
Основные научно-образовательные направления
Диссертационные советы
Поступающим
Студентам
Сотрудникам
Инновации
Международная деятельность
ЛЭТИ сегодня
Руководство
Структура
История и награды
Кампус
Нормативные документы
Закупки
Университет сегодня
Миссия, гимн
Этический кодекс
Федеральные проекты
ЛЭТИ в рейтингах
Фирменный стиль
Ректор
Ректорат
Ученый совет
Наблюдательный совет
История
Награды
Почетные звания и знаки
Выдающиеся выпускники
Музей
Университетский городок
Карта
Общежития
Внутренние распоряжения к опубликованию
Документы к публикации от МОН
Образовательная деятельность
Образовательные программы
Управление образовательной политики
Аспирантура и докторантура
Конкурсы ППС
Научная деятельность
Административная структура
Основные научно-образовательные направления
Диссертационные советы
Центр трансфера технологий
Центр Молодежного предпринимательства
Главная
»
Профиль сотрудника
Ярчук Эрнст Янович
Занимаемые должности
Инженер
(каф. Физики)
Ассистент
(каф. Фотоники)
Подразделение
Кафедра физики
Кафедра Фотоники
Электронная почта
ernst_yarchuk@mail.ru
Публикации
Gudovskikh A. S. Plasma deposition of GaN/InP multilayer structures on Si / A. S. Gudovskikh, A. V. Uvarov, A. I. Baranov, [и др.] // Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. — 2026. — Т. 44, № 2. — Ст. 023007. — DOI: 10.1116/6.0005036.
Год: 2026
Uvarov A. Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of Ga2O3 films using N2O plasma for silicon surface passivation / A. Uvarov, A. Baranov, V. Pozdeev, [и др.] // Applied Surface Science. — 2026. — Т. 719. — Ст. 165092. — DOI: 10.1016/j.apsusc.2025.165092.
Год: 2026
Yarchuk E. Y. Effect of light incidence angle on the characteristics of silicon solar cells with different texturing / E. Y. Yarchuk, E. A. Vyacheslavova, A. O. Monastyrenko, [и др.] // ST PETERSBURG POLYTECHNIC UNIVERSITY JOURNAL-PHYSICS AND MATHEMATICS. — 2024. — Т. 17, № 3. — С. 134–137. — DOI: 10.18721/jpm.173.126.
Год: 2024
Максимова А. А. Использование наноструктурированного черного кремния в поверхностно-усиленной спектроскопии комбинационного рассеяния света / А. А. Максимова, А. В. Уваров, Е. А. Вячеславова, [и др.] // Физика твердого тела. — 2024. — С. 2152–2154. — DOI: 10.61011/ftt.2024.12.59583.6608pa. — EDN: PNNROV.
Год: 2024
Ярчук Э. Исследование возможности повышения годовой выработки электроэнергии за счет использования кремниевых солнечных элементов с наноструктурированной поверхностью / Э. Ярчук, Е. Вячеславова, М. Шварц, [и др.] // Физика и техника полупроводников. — 2023. — С. 522–525. — DOI: 10.61011/ftp.2023.07.56781.5013c. — EDN: KOMGLT.
Год: 2023